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芯片體襯底研磨后清洗
發(fā)布時(shí)間:2023.03.18   瀏覽次數:228

客戶(hù)為知名上市光電芯片制造企業(yè),產(chǎn)品業(yè)界領(lǐng)先。其藍寶石襯底在后工序前經(jīng)過(guò)晶棒切片,研磨,拋光;在切、磨、拋工序中,清洗很關(guān)鍵,產(chǎn)品合格率的關(guān)鍵因素之一,要求不損傷基材,對表面潔凈度、顆粒度要求極高??蛻?hù)有一條6槽全自動(dòng)超聲波清洗機。

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HMT-6210芯片襯底清洗劑】是一款專(zhuān)為芯片襯底研磨后清洗開(kāi)發(fā)的堿性清洗劑,由多種助洗劑、分散劑、表面活性劑配制而成,對各種芯片襯底研磨后表面油污、指紋、灰塵、拋光粉、微細顆粒等有極佳的去除效果,表面潔凈度高,可滿(mǎn)足后續芯片制程的嚴格清潔要求。

清洗工藝為:清洗(HMT-6210)—清洗(HMT-6210)—純水洗—純水洗—熱純水洗—慢拉—熱風(fēng)烘干,清洗溫度:60℃,清洗節拍:180秒。

客戶(hù)使用后,產(chǎn)線(xiàn)質(zhì)量穩定,合格率一直保持很高水平。